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深圳市中圖儀器股份有限公司

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晶圓粗糙度檢測儀器

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào):

品       牌:中圖儀器

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:深圳市

更新時(shí)間:2025-03-07 07:19:38瀏覽次數(shù):1054次

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羅健

經(jīng)理
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產(chǎn)地 國產(chǎn) 加工定制
由于硅晶圓的粗糙度檢測精度已到亞納米量級(jí),而在此量級(jí)上,接觸式輪廓儀和一般的非接觸式儀器均無法滿足檢測要求,只有結(jié)合了光學(xué)干涉原理和精密掃描模塊的SuperViewW1晶圓粗糙度檢測儀器才適用。

從硅晶圓的制備到晶圓IC的制造,每一步都對工藝流程的質(zhì)量有著嚴(yán)格的管控要求,作為產(chǎn)品表面質(zhì)量檢測儀器的光學(xué)3D表面輪廓儀,以其高檢測精度和高重復(fù)性,發(fā)揮著重要的作用。


中圖儀器SuperViewW1光學(xué)3D表面輪廓儀作為晶圓粗糙度檢測儀器,其分辨率可達(dá)0.1nm。


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SuperViewW1晶圓粗糙度檢測儀器



應(yīng)用

硅晶圓的粗糙度檢測

在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,硅晶圓的制備質(zhì)量直接關(guān)系著晶圓IC芯片的制造質(zhì)量,而硅晶圓的制備,要經(jīng)過十?dāng)?shù)道工序,才能將一根硅棒制成一片片光滑如鏡面的拋光硅晶圓,如下圖所示,提取表面一區(qū)域進(jìn)行掃描成像。


硅晶圓粗糙度測量.jpg

硅晶圓粗糙度測量


上圖中制備好的拋光硅晶圓表面輪廓起伏已在數(shù)納米以內(nèi),其表面粗糙度在0.5nm左右,由于其粗糙度精度已到亞納米量級(jí),而在此量級(jí)上,接觸式輪廓儀和一般的非接觸式儀器均無法滿足檢測要求,只有結(jié)合了光學(xué)干涉原理和精密掃描模塊的光學(xué)3D表面輪廓儀才適用。



晶圓IC的輪廓檢測

晶圓IC的制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV蝕刻到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程,其中由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的粘附異物和瑕疵均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺陷,因此必須對光罩和晶圓IC的表面輪廓進(jìn)行檢測。下圖是一塊蝕刻后的晶圓IC,使用光學(xué)3D表面輪廓儀對其中一個(gè)微結(jié)構(gòu)掃描還原3D圖像,并測量其輪廓尺寸。


晶圓IC減薄后的粗糙度檢測.jpg

晶圓IC減薄后的粗糙度檢測


在硅晶圓的蝕刻完成后,根據(jù)不同的應(yīng)用需求,需要對制備好的晶圓IC的背面進(jìn)行不同程度的減薄處理,在這個(gè)過程中,需要對減薄后的晶圓IC背面的表面粗糙度進(jìn)行監(jiān)控以滿足后續(xù)的應(yīng)用要求。在減薄工序中,晶圓IC的背面要經(jīng)過粗磨和細(xì)磨兩道磨削工序,下圖是粗磨后的晶圓IC背面,選取其中區(qū)域進(jìn)行成像分析。


技術(shù)規(guī)格

產(chǎn)品型號(hào):SuperView W1系列

產(chǎn)品名稱:光學(xué)3D表面輪廓儀

影像系統(tǒng):1024×1024

光學(xué)ZOOM:0.5×,(0.75×,1×可選)

干涉物鏡:10×,(2.5×,5×,20×,50×,100×可選)

XY平臺(tái):尺寸320×200mm,行程140×110mm,電動(dòng)、手動(dòng)同時(shí)具備,均為光柵閉環(huán)反饋

Z軸行程:100mm,電動(dòng)

Z向掃描范圍:10mm

Z向分辨率:0.1nm

水平調(diào)整:±5°手動(dòng)

粗糙度RMS重復(fù)性:0.005nm

臺(tái)階高測量:準(zhǔn)確度0.3%,重復(fù)性0.08% 1σ

主要特點(diǎn):非接觸式無損檢測,一鍵分析、測量速度快、效率高

生產(chǎn)企業(yè):深圳市中圖儀器股份有限公司

注釋:更多詳細(xì)產(chǎn)品信息,請聯(lián)系我們獲取

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